微分过问是一种利用光的过问景象进行成像的技术，其光学道理基于过问效应。当两束光通过光学系统时会产生互有关涉，若是相位一样，过问的了局是亮度加强；反之，就会相互抵消变暗。
在微分过问中，光源发出的光经特定光学元件（如沃拉斯顿棱镜或DIC棱镜）后，被分化为两束频率一样的有关光束。这两束光同时聚焦投射在被测物表表上相距很近的点，形成两个光斑。这两束有关光之间的光程差取决于两束光投射点的相对高度。被测物表表的高度变动会导致光程差的变动，通过检测这种光程差的变动，能够丈量出被测物表表的描摹。
在微分过问显微镜中，光源通常为平面偏振光。光线经棱镜折射后分成两束，这两束光会在分歧功夫经过样品的相邻部门。倒剽两束光由样品表表反射后再次进入棱镜时，由于样品表表的不平坦、裂纹、微孔、凹陷、晶界等特点，它们会产生分歧的反射和相位变动，从而形成新的光程差。这些光程差的变动最终会转化为过问信号，通过信号处置和数学算法，能够实现对物体表表描摹的沉建和丈量。
微分过问成像道理在物体表表描摹丈量、光学显微镜、无损检测等领域有着宽泛的利用。
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